南昌三盛半导体获得用于离子束刻蚀晶圆的冷却设备专利完成在对晶圆刻蚀时表面温度散布均匀

时间: 2025-04-29 21:55:41 |   作者: 产品展示

产品介绍

  金融界2025年3月21日音讯,国家知识产权局信息数据显现,南昌三盛半导体有限公司获得一项名为“一种用于离子束刻蚀晶圆的冷却设备”的专利,授权公告号CN 222637219 U,请求日期为2024年6月。

  专利摘要显现,本实用新型供给一种用于离子束刻蚀晶圆的冷却设备,包含载台、在载台上放置用于固定晶圆的治具、以及在所述载台上设置的用于固定所述治具的固定组织。本实用新型经过载台上的固定组织对治具做固定,接着可经过外部的氦气供给体系,往载台内运送氦气,氦气终究会经过小孔进入到下盘的内部,由此完成对下盘的降温,下盘的温度将传导到晶圆反面,由此完成在对晶圆刻蚀的时分,晶圆的表面温度散布均匀,别的,经过治具对晶圆做固定,可便于对晶圆的固定快速快捷,供给晶圆刻蚀的工作效率,此外,经过缓冲垫的设置在上盘与下盘衔接的时分,缓冲垫可起到缓冲,避免晶圆损坏。

  天眼查资料显现,南昌三盛半导体有限公司,成立于2020年,坐落南昌市,是一家以从事批发业为主的企业。企业注册本钱100万人民币,实缴本钱100万人民币。经过天眼查大数据分析,南昌三盛半导体有限公司共对外出资了3家企业,产业线条,此外企业还具有行政许可5个。